遂寧真空鍍膜機

派瑞林parylene真空氣相沉積設備又名派瑞林鍍膜機、哌拉倫鍍膜機，是用于電路板pcba、線圈馬達、硅橡膠制品、磁性材料、led/oled、傳感器、微電子產品、電池、產品、書籍畫卷等產品鍍膜的設備，與傳統的三防噴涂設備不同，它采用了一種特的化學氣相沉積工藝（cvd），沉積過程過程主要有以下三個步驟：
     1. 真空環境，溫度130℃條件下，固態派瑞林材料升華成氣態。
     2. 真空環境，溫度680℃條件下，將氣態雙分子裂解成為活性單體。
     3. 真空環境，常溫下，氣態單體在基體上生長聚合，形成致密的防護膜。
     的沉積過程決定了派瑞林parylene膜層厚度可以自由控制、膜層厚度整體比較均勻、膜層比較完整無薄弱點無針孔等特點，所以被涂敷后的產品膜層防護性能明顯**噴漆、環氧、電鍍等傳統三防工藝，防水、絕緣、耐鹽霧、耐腐蝕的防護效果也較好，從而提高產品性能，延長適用壽命。

真空鍍膜機為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設備內部由于長時間鍍膜導致有些臟東西在加熱時放氣，所以這種情況需要維護，即把內部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，徹底清理。
2、由微小的滲漏，沒有發現，尤其是各個傳動部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用針頭酒精觀察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時不好判斷，至于你說的真空1.9的那個其實也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數值。

多功能磁控濺射鍍膜系統主要用途：用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、**導膜、傳感膜以及各種需求的功能薄膜。

主要分類有兩個大種類： 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。
一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
厚度均勻性主要取決于：
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3. 蒸發功率，速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間，厚度大小。
組分均勻性：
蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性：
1、晶格匹配度
2、 基片溫度
3、蒸發速率
濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。
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